基本概述

知识产权，是“基于创造成果和工商标记依法产生的权利的统称”。最主要的三种知识产权是著作权、专利权和商标权，其中专利权与商标权也被统称为工业产权。知识产权的英文为“intellectual property”，也被翻译为智力成果权、智慧财产权或智力财产权。

知识产权是权利人依法就下列客体享有的专有的权利：

（一）作品；

（二）发明、实用新型、外观设计；

（三）商标；

（四）地理标志；

（五）商业秘密；

（六）集成电路布图设计；

（七）植物新品种；

（八）法律规定的其他客体。”

知识产权表面上可被理解为“对知识的财产权”，其前提是知识具备成为法律上的财产的条件。然而，知识的本质是一种信息，具备无体性与自由流动性。作为信息的知识一旦被传播，提供这一信息的人就无法对信息进行排他性的控制。那么由这一信息所表达的智力成果就不可能成为法律意义上信息创造者的财产。而知识产权法律制度通过赋予智力成果的创造者以排他性使用权和转让权的方式，创造出了一种前所未有的财产权形式。

法律之所以要将原本自由的信息转变为属于创造者的财产，是出于推动科技发展、社会进步和保护某些特定利益的公共政策的需要。因此并非所有的知识都产生知识产权。同时，知识产权一词语的外延也随着社会的发展而不断变化，知识产权也不断完善。

1993年关贸总协定通过的《与贸易有关的知识产权协定》（简称为“TRIPs”协定）中所称的知识产权保护的范围：（1）著作权及邻接权；（2）商标权；（3）地理标记权；（3）工业品外观设计权；（5）专利权；（6）集成电路布图设计权；（7）对未公开信息的保护；（8）在契约性许可中对反竞争行为的控制。

1982年我国通过《商标法》，这是我国制定的第一部保护知识产权的法律，标志着我国现代知识产权法律制度开始构建。我国首部《专利法》于1984年通过。1986年通过的《民法通则》，第一次把知识产权列为民事权利的重要组成部分，明确对定了公民、法人的知识产权受法律保护。1991年《著作权法》实施。伴随着《商标法》、《著作权法》和《专利法》的历次修订，我国知识产权法律制度不断发展完善。

权利类型

（一）著作权

著作权：是指自然人、法人或者其他组织对文学、艺术和科学作品享有的财产权利和精神权利的总称。在我国，著作权即指版权。广义的著作权还包括邻接权，我国《著作权法》称之为“与著作权有关的权利”。

（二）专利权

专利权，是指国家根据发明人或设计人的申请，以向社会公开发明创造的内容，以及发明创造对社会具有符合法律规定的利益为前提，根据法定程序在一定期限内授予发明人或设计人的一种排他性权利。

（三）商标权

商标权是民事主体享有的在特定的商品或服务上以区分来源为目的排他性使用特定标志的权利。商标权的取得方式包括通过使用取得商标权和通过注册取得商标权两种方式。通过注册获得商标权又称为注册商标专用权。在我国，商标注册是取得商标的基本途径。《商标法》第3条规定：“经商标局核准注册的商标为注册商标，商标注册人享有商标专用权，受法律保护。”

商标权的客体是商标，商标是经营者为了使自己的商品或服务与他人的商品或服务区别而使用的标记。商标最主要的功能是来源识别功能。经营者将商标使用于自己的商品或服务上，使消费者通过商标认识、记住自己的商品或服务，了解自己商品或服务的质量、品质特点，建立自己的信誉，消费者则可以通过商标选购心仪的商品或服务。除此之外，商标可以促使商标使用人努力保持、提高商品和服务的质量，因此，商标就有了另一派生功能，即质量担保功能。

任何能够将自然人、法人或者其他组织的商品与他人的商品区别开的标志，包括文字、图形、字母、数字、三维标志、颜色组合和声音等，以及上述要素的组合，均可以作为商标申请注册。

（四）地理标志

地理标志，是指标示某商品来源于某地区，该商品的特定质量、信誉或者其他特征主要由该地区的自然因素或者人文因素所决定的标志。《民法典》将地理标志规定为知识产权的客体之一。地理标志在我国主要通过以下三种模式进行保护：一是通过注册为证明商标或集体商标进行保护，二是通过地理标志保护产品（PGI）进行保护，三是通过农产品地理标志（AGI）进行保护。

（五）商业秘密

商业秘密，是指不为公众所知悉，具有商业价值，并经权利人采取相应保密措施的技术信息、经营信息等商业信息。民法典第一百二十三条明确将商业秘密列为知识产权的客体。

商业秘密与一般知识产权相比，有其特殊性。一般知识产权具有独占性、专有性、排他性，具有对抗第三人的效力，不特定公众均负有不得实施的义务；商业秘密不具有对抗善意第三人的效力，第三人可以善意地实施通过正当手段获得的商业秘密，例如自行研发和反向工程等，不特定公众并不负有不得实施的义务，只是因为并不知晓而无法实施。

（六）集成电路布图设计权

集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

我国在2001年颁布了《集成电路布图设计保护条例》建立了我国的集成电路布图设计权保护制度。受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。